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低溫冷卻液循環(huán)泵DL-2005采用風冷式全封閉壓縮機組制冷及微機智能控制系統(tǒng)，提供低溫循環(huán)冷卻水（液）流或恒溫水（液）流，以滿足用冷卻水及低溫液體去降溫或恒溫儀器（如旋轉蒸發(fā)器、發(fā)酵灌、電子顯微鏡、低溫化學反應釜、電子能譜儀、質譜儀、密度儀、冷凍干燥儀、真空鍍膜儀、生物制藥反應釜等）的需要。

低溫冷卻液循環(huán)泵DL-2010廣泛用于化工、石油、醫(yī)學、生物學、物理化學、計量、大專院校、電子儀表、科研機構等領域進行實驗、檢測和企業(yè)生產的一個冷熱受控、溫度均勻的場所對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，恒溫糟控制系統(tǒng)采用PID自動控制，LED數(shù)顯，它的外循環(huán)泵可把糟內恒溫液體向外輸出，建立槽外第二恒溫場。

低溫冷卻液循環(huán)泵的工作冷槽（浴）內，還可放入裝有生化試劑或被測樣品的多種容器直接進行低溫恒溫試驗或測試。

低溫冷卻液循環(huán)泵采用雙窗口，紅、綠兩種顏色LED顯示溫度設定值和溫度測量值，分辨率0.1℃。微機可修正溫度測量值偏差，使數(shù)顯精度達0.1℃。

低溫恒溫循環(huán)器廣泛用于化工、石油、醫(yī)學、生物學、物理化學、計量、大專院校、電子儀表、科研機構等領域進行實驗、檢測和企業(yè)生產的一個冷熱受控、溫度均勻的場所對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，恒溫糟控制系統(tǒng)采用PID自動控制，LED數(shù)顯，它的外循環(huán)泵可把糟內恒溫液體向外輸出，建立槽外第二恒溫場。

低溫恒溫循環(huán)器常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。